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二氧化氯的發生方法主要有兩種——化學法和電解法，電解法發生ClO2技術因其耗電量大，運行費用高，二氧化氯含量低，故障率高等缺陷，目前在市場上和使用中已逐漸被淘汰，在此就不再做介紹。其中化學法發生二氧化氯的技術已趨成熟，化學法分為亞氯酸鈉法和氯酸鈉法兩種。
 

什么是干接點、無源觸點？

在有的客戶詢價文件中，出現這個詞，如下：

二氧化氯發生器生產廠/醫院污水消毒設備
設備各部位名稱及相應作用：
2.2.1 鹽室補水閥：打開此閥，向供鹽室內補水，將供鹽室內食鹽自動溶化，（供鹽室與內室貫通，鹽水同時流向內室）供內室進行電解。
2.2.2  堿室補水閥：打開此閥，由此進清水，內室（陽極室）食鹽電解后，通過隔膜，鈉離子定向遷移外室（陰極室），清水變成堿液。為提高氯化消毒效果，確保產氣量穩定，應根據設備操作具體情況及時排堿并補充清水。
2.2.3  電解槽內室溫度應保持在40~50℃之間、外室溫度應保持在30-40℃之間運行，如超過此溫度，應及時打開冷卻水調整閥，從而降低電解槽溫度。
2.2.4  鹽室排污閥：當供鹽室內細孔被堵住或沉積雜物過多時，打開此閥及鹽室進水閥，進行反復沖洗。（必要時，松開螺栓，取出供鹽室進行沖洗）。
2.2.5  堿室排污閥：打開此閥，排出堿液。